Image of Analisis sifat mekanik dan struktur mikro AL-5083 terdeposisi titanium nitrida (TiN) menggunakan metode DC sputtering

Tugas Akhir

Analisis sifat mekanik dan struktur mikro AL-5083 terdeposisi titanium nitrida (TiN) menggunakan metode DC sputtering

ANALISIS SIFAT MEKANIK DAN STRUKTUR MIKRO AL-5083 TERDEPOSISI TITANIUM NITRIDA (TiN) MENGGUNAKAN METODE DC SPUTTERING. Untuk meningkatkan sifat mekanik permukaan Al-5083, lapisan tipis Titanium Nitrida (TiN) ditumbuhkan pada permukaan substrat Al-5083 melalui proses deposisi. Proses deposisi lapisan tipis Titanium Nitrida (TiN) dilakukan dengan menggunakan metode DC sputtering. Deposisi dilakukan dengan variasi waktu 60, 90, 120, 150, dan 180 menit dengan tekanan gas 70Ar:30N. Proses deposisi dengan variasi waktu dilakukan untuk mencari waktu optimum dari proses sputtering. Setelah waktu optimum didapat, dilakukan deposisi dengan variasi perbandingan gas 60Ar:40N, 70Ar:30N, 80Ar:20N, dan 90Ar:10N. Pengaruh deposisi lapisan tipis Titanium Nitrida (TiN) pada material dianalisis melalui beberapa tahap karakterisasi dan perbandingannya terhadap material sebelum dan sesudah proses deposisi dengan metode DC sputtering. Sifat permukaan dari sampel hasil proses DC sputtering dianalisis menggunakan Scanning Electron Microscopy (SEM) dan Electron Dispersive Spectroscopy (EDS), metalografi, uji kekerasan mikro Vickers, serta uji keausan. Hasil pengujian SEM-EDS menunjukkan lapisan tipis Titanium Nitrida (TiN) berhasil ditumbuhkan pada permukaan material. Peningkatan kekerasan terjadi seiring dengan kenaikan waktu dan mencapai kondisi optimum pada waktu 120 menit. Pada variasi gas, nilai kekerasan optimum dicapai pada perbandingan gas 70Ar:30N. Laju keausan material yang telah dilakukan proses DC sputtering mengalami penurunan dengan nilai 8,25 x 10-8 mm2/kg pada kondisi optimum.rnKata kunci: DC sputtering, Aluminium 5083, Titanium Nitridarn rnABSTRACTrnANALYSIS OF MECHANICAL PROPERTIES AND MICRO STRUCTURE OF AL-5083 DEPOSITED TITANIUM NITRIDE (TiN) USING DC SPUTTERING METHOD. In order to improve the surface mechanical properties of Al-5083, Titanium Nitride (TiN) thin layer was fabricated on the surface of Al-5083 through deposition process. The deposition process carried out with DC sputtering method. Deposition process is carried out with variations of time 60, 90, 120, 150 and 180 minutes with gas ratio 70Ar:30N. After the optimum time obtained, deposition process is carried out by varying the gas ratio 60Ar:40N, 70Ar:30N, 80Ar:20N, and 90Ar:10N. The effect of thin layer deposition on materials analyzed through several stages of characterization and comparison of materials before and after deposited with sputtering process. The structural and composition properties of sputtering samples analyzed with Scanning Electron Microscopy (SEM) and Electron Dispersive Spectroscopy (EDS) test, metallography, micro hardness tester, and wear test. The results of SEM-EDS test showed that Titanium Nitride (TiN) thin layer was formed on the surface of the materials. Increased hardness occurs with increasing time and reached optimum conditions at 120 minutes. Testing that carried out using gas variation parameters reached optimum condition at 70Ar:30N. specific wear rate of the materials that carried out using DC sputtering method had been decreases and reached optimum condition with a value of 8,25 x 10-8 mm2/kg.rnKeywords: DC sputtering, Aluminium 5083, Titanium Nitridern

Ketersediaan
S19-02292/TA/M/19 669.295(043) MUH aPerpustakaan Poltek Nuklir (600)Tersedia
Informasi Detail
Judul Seri
-
No. Panggil
669.295(043) MUH a
Penerbit
Yogyakarta : STTN-BATAN.,
Deskripsi Fisik
xv, 58 halaman : ilustrasi ; 30 cm
Bahasa
Indonesia
ISBN/ISSN
-
Klasifikasi
669.295(043)
Tipe Isi
teks
Tipe Media
tanpa perantara
Tipe Pembawa
volume
Edisi
-
Subjek
Metalurgi Titanium
Info Detail Spesifik
-
Pernyataan Tanggungjawab
Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas
Komentar
Anda harus login sebelum memberikan komentar