Tugas Akhir
Optimasi parameter proses implantasi ion nitrogen multi energi pada permukaan aluminium alloy 7075 menggunakan progam SRIM
Implantasi ion nitrogen pada energi 50 keV pada permukaan Aluminium alloy 7075, secara perhitungan hanya akan mampu mencapai kedalaman 1136 Å dan ion ionnya akan terdistrbusi efektif secara gausian pada kedalaman 1136 Å ± 468 Å, dengan demikian ruangan dari permukaan hingga kedalaman 668 Å tidak terisi oleh ion (kosong muatan) yang hal ini tentunya akan mempengaruhi sifat permukaan yang diimplantasi. Solusi dari permasalahan tersebut adalah dengan cara mengimplantasi beberapa kali pada energi kurang dari 50 keV. Untuk meminimalisasi ruang kosong tersebut, dalam penelitian ini telah dilakukan simulasi berapa kali target diimplantasi pada energi yang berbeda dan juga dilakukan perhitungan tentang jumlah ion nitrogen yang harus diimplantasikan, sehingga distribusi ion nitrogen dapat merata dari permukaan hingga pada kedalam 1136 Å. Dari hasil simulasi dan perhitungan diperoleh hasil bahwa target harus diimplantasi minimal 6 kali implantasi pada energi 50 keV, 40 keV, 30 keV, 20 keV, 10 keV dan 5 keV. Pada kondisi tersebut dosis yang harus diimplantasikan berturut turut adalah 1,7 × 1016 ion/cm2, 1,59 × 1016 ion/cm2, 1,49 × 1016 ion/cm2, 1,47× 1016 ion/cm2 , 1,29 × 1016 ion/cm2 dan 1,18 × 1016 ion/cm2. Dari hasil perhitungan diperoleh hasil bahwa jumlah keseluruhan dosis dan prosentase nitrogen yang mengisi volume terimplantasi adalah sebesar adalah masing masing sebesar 8,72 × 1016 ion/cm2 dan 21,68 %. rnKata kunci: Aluminium 7075, multi energi, nitrogen, implantasi ion, SRIM.
S20-0282 | 29/TA/M/20 537.56 SEP o | Perpustakaan Poltek Nuklir | Tersedia |
Tidak tersedia versi lain