Image of Pengaruh waktu dan perbandingan gas argon dengan nitrogen terhadap sifat listrik lapisan tipis tungsten nitrida (WN) hasil deposisi menggunakan sputtering

Tugas Akhir

Pengaruh waktu dan perbandingan gas argon dengan nitrogen terhadap sifat listrik lapisan tipis tungsten nitrida (WN) hasil deposisi menggunakan sputtering

Telah dilakukan deposisi Tungsten Nitrida (WN) pada substrat kaca dengan variasi waktu dan perbandingan gas Argon/Nitrogen (Ar: N) menggunakan DC sputtering. Tujuan dari penelitian ini adalah untuk mengetahui pengaruh waktu deposisi dan perbandingan gas Ar: N terhadap sifat listrik lapisan WN. Deposisi lapisan tipis WN dilakukan menggunakan variasi waktu 30, 60, 90, dan 120 menit, diperoleh waktu optimum 120 menit dengan nilai resistansi sebesar 140,658 Ω. Kemudian menggunakan waktu deposisi 120 menit dilakukan deposisi variasi perbandingan gas argon dan nitrogen 60:40, 80:20, dan 90:10. Hasil variasi perbandingan gas diperoleh nilai resistansi terendah sebesar 20,498 Ω pada variasi perbandingan gas 80:20. Hasil karakterisasi SEM-EDS tampang lintang pada sampel variasi perbandingan gas 80:20 menunjukkan ketebalan lapisan WN 54,4 μm - 55,6 μm dengan kompoisis unsur unsur W=74% atom dan unsur N=5,8% atom. rnKata kunci : DC sputtering, SiO2, tungsten nitrida (WN), sifat listrikrn

Ketersediaan
S19-024816/TA/M/19 539.231(043) AND pPerpustakaan Poltek Nuklir (500)Tersedia
Informasi Detail
Judul Seri
-
No. Panggil
539.231(043) AND p
Penerbit
Yogyakarta : STTN-BATAN.,
Deskripsi Fisik
xvii, 61 halaman : ilustrasi ; 30 cm
Bahasa
Indonesia
ISBN/ISSN
-
Klasifikasi
539.231(043)
Tipe Isi
teks
Tipe Media
tanpa perantara
Tipe Pembawa
volume
Edisi
-
Subjek
Sputtering
Info Detail Spesifik
-
Pernyataan Tanggungjawab
Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas
Komentar
Anda harus login sebelum memberikan komentar