Tugas Akhir

Deposisi tin pada Al-5083 untuk meningkatkan kekerasan dan ketahanan korosi menggunakan proses DC sputtering

---

Aluminium 5083 merupakan paduan Al-Mg yang umum digunakan pada konstruksi lambung kapal. Walaupun memiliki ketahanan korosi yang baik, aluminium paduan ini rentan terhadap korosi pada lingkungan ekstrim pada waktu yang lama. Penelitian ini bertujuan untuk meningkatkan kemampuan aluminium 5083 yang dideposisi TiN terhadap kekerasan dan ketahanan korosi menggunakan proses DC sputtering. Penelitian ini dilakukan dengan beberapa proses yaitu studi literatur, persiapan alat dan bahan, pembuatan benda uji, proses pelapisan, karakterisasi, analisis data, dan pembuatan laporan. Pengujian kekerasan dilakukan dengan metode vickers, pengujian korosi dilakukan dengan metode elektrokimia, dan uji struktur kristal menggunakan X-ray diffraction. Hasil dari penelitian ini adalah sputtering pada waktu 120 menit meningkatkan kekerasan 81,6 % atau menjadi 94,7 VHN. Laju korosi paling baik pada waktu sputtering 90 menit sebesar 0,0001 mpy. Terbentuknya fasa TiN pada bidang berturut – turut 111, 200, dan 202 dan ditunjukkan melalui puncak – puncak pada 2-theta sebesar 36,68°, 42,72° dan 61,98°. Kata kunci : Deposisi TiN, DC sputtering, Al 5083, X-ray diffraction, vickersrnrnABSTRACT rn rnDEPOSITION OF TiN ON Al-5083 TO INCREASE HARDNESS AND CORROSION RESISTANCE USING A DC SPUTTERING PROCESS. Aluminum 5083 is an Al-Mg alloy commonly used in ship hull construction. Although it has good corrosion resistance, this aluminum alloy is susceptible to corrosion in extreme environments for a long time. This research aims to improve the ability of aluminum 5083 deposited by TiN to increase hardness and corrosion resistance usinf dc sputtering process. This research was carried out with several processes, namely the study of literature, preparation of tools and materials, manufacturing of test objects, coating process, characterization, data analysis, and report making. Hardness testing was done by vickers method, corrosion testing was carried out by electrochemical method, and crystal structure test using diffraction X-ray. The results of this study were sputtering time 120 minutes increasing hardness 81.6% or becoming 94.7 VHN. The best corrosion rate at 90 minutes sputtering time is 0.0001 mpy. The formation of the TiN phase in the fields of 111, 200, and 202, respectively, was shown through peaks at 2-theta at 36.68 °, 42.72 ° and 61.98 °. rn rnKeywords : Deposition TiN, DC sputtering, Al 5083, X-ray diffraction, vickers.

---

Ketersediaan

S19-0265

20/TA/M/19 539.231(043) MUH d

Perpustakaan Poltek Nuklir (500)

Tersedia

Informasi Detail

Judul Seri

-

No. Panggil

539.231(043) MUH d

Penerbit

Yogyakarta : STTN-BATAN., 2019

Deskripsi Fisik

xi, 117 halaman : ilustrasi ; 30 cm

Bahasa

Indonesia

ISBN/ISSN

-

Klasifikasi

539.231(043)

Tipe Isi

teks

Tipe Media

tanpa perantara

Tipe Pembawa

volume

Edisi

-

Subjek

Sputtering

Info Detail Spesifik

-

Pernyataan Tanggungjawab

Muhammad Gifari Ananda

Versi lain/terkait

Lampiran Berkas

Komentar

---

Anda harus login sebelum memberikan komentar