Image of Pengaruh variasi waktu dan perbandingan gas argon oksigen terhadap sifat optik lapisan tipis nicro hasil deposisi menggunakan teknik DC sputtering

Tugas Akhir

Pengaruh variasi waktu dan perbandingan gas argon oksigen terhadap sifat optik lapisan tipis nicro hasil deposisi menggunakan teknik DC sputtering

PENGARUH VARIASI WAKTU DAN PERBANDINGAN GAS ARGON DAN OKSIGEN TERHADAP SIFAT OPTIK LAPISAN TIPIS NiCrO HASIL DEPOSISI MENGGUNAKAN TEKNIK DC SPUTTERING. Penelitian ini bertujuan untuk mengetahui pengaruh variasi waktu dan perbandingan gas terhadap sifat optik berupa energy gap dari lapisan tipis NiCrO untuk aplikasi divais spintronik. Penelitian dilakukan dengan mendeposisi lapisan tipis dari paduan NiCr dan O2 pada substrat kaca preparat (SiO2). Metode yang digunakan dalam penelitian ini adalah DC sputtering dengan parameter variasi waktu dan perbandingan gas Argon dan gas Oksigen. Deposisi tahap pertama dilakukan dengan variasi waktu 50, 60, 70, 80 dan 90 menit dengan perbandingan gas Ar:O2 yaitu 80:20. Waktu optimum untuk deposisi variasi waktu didapat pada waktu 60 menit dengan nilai energy gap 3,6 eV. Setelah waktu optimum didapat, dilakukan deposisi tahap kedua dengan variasi perbandingan gas Ar:O2; 60:40, 70:30, 80:20 dan 90:10. Perbandingan gas optimum Ar:O2 untuk deposisi variasi perbandingan gas adalah 60:40 dengan nilai energy gap 3,49 eV. Energy gap diperoleh dari karakterisasi sifat optik menggunakan alat spektrofotometri UV-Vis dengan metode Tauc Plot. Hasil dari karakterisasi SEM pada lapisan tipis NiCrO menunjukkan bahwa perbandingan gas 90Ar:10O lapisan terbentuk secara rata pada substrat terlihat pada morfologi permukaan yang homogen. Hasil analisis EDS menunjukkan rata-rata presentase berat atom terbesar yaitu unsur Ni sebesar 38,96%, 40,83%, 47,56%, 52,43% secara beurutan pada perbandingan gas 60Ar:40O, 70Ar:30O, 80Ar:20O dan 90Ar:10O. Penelitian ini bertujuan memperoleh data energy gap yang optimum untuk lapisan tipis NiCrO yaitu pada waktu sputtering 60 menit dan perbandingan gas Ar:O2 yaitu 80:20 untuk diaplikasikan sebagai divais spintronik.rnrnrnKata kunci: DC sputtering, Lapisan Tipis, NiCrO, spintronik.rnrnABSTRACTrnEFFECT OF TIME AND COMPARISON VARIATION OF ARGON GAS AND OXYGEN GAS ON OPTICAL PROPERTIES OF NiCrO THIN FILMS DEPOSITION USING DC SPUTTERING TECHNIQUES. This study aims to determine the effect of time variations and gas comparisons of optical properties in the form of energy gaps from NiCrO thin layers for spintronic device applications. The study was carried out by placing a thin layer of NiCr and O2 alloys on a glass preparation substrate (SiO2). The method used in this study is DC sputtering with time variation parameters and the ratio of Argon and Oxygen gases. The first stage deposition was carried out with a time variation of 50, 60, 70, 80 and 90 minutes with a gas ratio of Ar: O2 which is 80:20. The optimum time for time variation deposition was obtained at 60 minutes with an energy gap value of 3.6 eV. After the optimum time is obtained, the second stage of deposition is carried out by varying the gas ratio Ar: O2; 60:40, 70:30, 80:20 and 90:10. Optimum gas ratio Ar: O2 for deposition of variations in gas ratio is 60:40 with the value of energy gap 3.49 eV. The energy gap is obtained from the characterization of optical properties using a UV-Vis spectrophotometry with the Tauc Plot method. The results of the SEM characterization of NiCrO thin films show that the gas ratio 90Ar:10O2 layer is formed evenly on the substrate seen in a homogeneous surface morphology. The results of the EDS analysis show the average percentage of the largest atomic weight, namely Ni element of 38.96%, 40.83%, 47.56% sequentially at gas ratio 60Ar:40O2, 70Ar:30O2, 80Ar:20O2 and 90Ar:10O2. This study aims to obtain the optimum energy gap data for NiCrO thin films, namely at 60 minutes sputtering time and Ar:O2 gas ratio of 80:20 to be applied as a spintronic device.rnrnrnKeywords: sputtering DC, thin film, NiCrO, spintronics.rn

Ketersediaan
S19-02534/TA/M/19 539.231(043) TIW pPerpustakaan Poltek NuklirTersedia
Informasi Detail
Judul Seri
-
No. Panggil
539.231(043) TIW p
Penerbit
Yogyakarta : STTN-BATAN.,
Deskripsi Fisik
xv, 50 halaman : ilustrasi ; 30 cm
Bahasa
Indonesia
ISBN/ISSN
-
Klasifikasi
539.231(043)
Tipe Isi
teks
Tipe Media
tanpa perantara
Tipe Pembawa
volume
Edisi
-
Subjek
Sputtering
Info Detail Spesifik
-
Pernyataan Tanggungjawab
Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas
Komentar
Anda harus login sebelum memberikan komentar