Tugas Akhir
Analisis struktur kristal, kekerasan dan sudut kontak permukaan lapisan tipis TiO₂ pada Al 7075 dengan metode plasma sputtering
Al 7075 banyak dimanfaatkan sebagai bahan pada rangka badan pesawat, permukaan sayap atas pesawat dan spars. Namun, Al 7075 memiliki kandungan zinc (5,6%) yang bersifat anodik sehingga sangat rentan terhadap berbagai jenis korosi, sehingga mempengaruhi umur pakai material. Pada penelitian ini telah dilakukan proses pelapisan TiO2 menggunakan metode plasma sputtering pada material Al 7075 dengan variasi waktu 90 dan 120 menit dan perbandingan gas Ar:O2 90:10, 80:20, 70:30 dan 60:40. Telah dilakukan pengamatan struktur kristal menggunakan XRD, pengujian kekerasan vickers dan sudut kontak permukaan. Diketahui telah terbentuk lapisan tipis TiO2 pada 2-theta 43,22o untuk TiO2 fasa anatase, 43,22o, 50,73o, 75,86o dan 76,06o untuk TiO2 fasa brookite serta 75,86o dan 76,06o untuk TiO2 fasa rutile pada sampel sudut kontak permukaan optimum. Dan 2-theta 43,26o, 50,77o, 75,88o dan 76,06o untuk TiO2 fasa brookite, 75,88o dan 76,06o untuk TiO2 fasa rutile serta 75,88o untuk TiO2 fasa anatase untuk sampel kekerasan vickers optimum. Dihasilkan nilai kekerasan vickers optimum 67,60 HV pada waktu deposisi 120 menit dan perbandingan gas Ar:O2 80:20 dan peningkatan sudut kontak permukaan dengan nilai optimum 120,65o pada waktu deposisi 90 menit dan perbandingan gas Ar:O2 60:40. rnKata kunci: Al 7075, sudut kontak permukaan, plasma sputtering.
S20-0263 | 9/TA/M/20 539.53 YUD a | Perpustakaan Poltek Nuklir | Tersedia |
Tidak tersedia versi lain